公司产业
离子注入机
中束流离子注入机：高端应用、工艺配套 同等质量、成本领先 本地服务、时间领先特种离子注入机： 材料改性 半导体器件制造 大功率器件制造大束流离子注入机：完成β机和商品机开发，在大生产线进行45-22nm工艺验证。高能离子注入机： 技术创新 广泛合作
中束流离子注入机：高端应用、工艺配套 同等质量、成本领先 本地服务、时间领先特种离子注入机： 材料改性 半导体器件制造 大功率器件制造大束流离子注入机：完成β机和商品机开发，在大生产线进行45-22nm工艺验证。高能离子注入机： 技术创新 广泛合作
分类：
- 产品描述
- 主要参数
- 关键特点
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- 商品名称: 离子注入机
- 商品编号: 1455880983423897600
中束流离子注入机：高端应用、工艺配套 同等质量、成本领先 本地服务、时间领先特种离子注入机： 材料改性 半导体器件制造 大功率器件制造大束流离子注入机：完成β机和商品机开发，在大生产线进行45-22nm工艺验证。高能离子注入机： 技术创新 广泛合作
中束流离子注入机：高端应用、工艺配套同等质量、成本领先本地服务、时间领先特种离子注入机： 材料改性半导体器件制造大功率器件制造大束流离子注入机：完成β机和商品机开发，在大生产线进行45-22nm工艺验证。高能离子注入机： 技术创新广泛合作 -
中束流离子注入机：中束流，剂量2E11-1E16 ions/cm2200mm/300mm，静电吸盘，单片注入单电荷1kev-300kev，最高三电荷900kev平行束，水平、垂直二维角度检测与修特种离子注入机：多元素注入: B+、P+、H+、He+、Ar+、O+、 Ni+、Zr+、Mo+、Fe+等；批装载，单片注入，基片尺寸为3-6”单电荷1KeV-300KeV；低温靶（液氮冷却）、常温靶、高温靶（600℃）三种靶盘可选。大束流离子注入机：大束流，剂量2 E 12 - 2 E 17 ions/cm2300mm，静电吸盘，单片注入单电荷200ev-50KeV200ev，B+束流大于2mA宽带束，水平角度检测与修正高能离子注入机：300mm，静电吸盘，单片注入；单电荷10KeV-1500KeV；平行束，水平角度检测与修正；最大生产率,250片/小时；注入均匀性和重复性可达0.5%。
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