从“0”到全系列

“恰同学少年，风华正茂”。2003年夏天，一群意气风发的青年变身“背包客”，坐上绿皮车远赴他乡，扎根北京，十余人的队伍“北漂”奋斗，将最好的青春年华，献给了最爱的离子注入机事业。从前踌躇满志的青年小伙已然成长为专业娴熟的中流砥柱，经历了“摸着石头过河”的艰辛，突破了艰苦创业的困境，取得技术研发的成果。我国第一台国产中束流离子注入整机于2008年研制成功，实现从“0”到“1”的突破。

团队愈战愈勇，连续突破了离子源、离子束传输与控制、剂量控制、晶圆传输、软件系统等五大关键技术，攻克了离子注入机的技术瓶颈，完成了第三代化合物半导体离子注入机及大束流离子注入机研制，2021年，更是成功翻越了被誉为集成电路领域“珠穆朗姆峰”的高能离子注入机，成功将其交付产线，至此形成了全系列国产离子注入机产品格局，实现国产离子注入装备的自主创新发展。

从“0”到全覆盖

为保障我国集成电路产线需求，着力打造自主可控、安全可靠的产业链、供应链，北京烁科中科信向更高的纳米工艺节点发起挑战，不仅要突破，还要实现全系列产品工艺全覆盖。

更为精细的纳米工艺对注入角度、注入剂量精度有更加严格的要求，注入期间，设备软硬件要紧密配合，需根据不同注入区域实时对注入剂量进行调整，稍有偏颇，良率将达不到产线要求。由于厂内设备无法真实模拟出产线注片环境，只能在客户端进行测试，攻关期间，工艺工程师和设备工程师轮番24小时驻守客户端，只为将最新测试数据及时传输，通过数据分析，对剂量和角度进行一遍又一遍地调整。

现下，北京烁科中科信中束流及大束流设备均已达成工艺指标，且工艺水准经过了先进集成电路产线验证，两种设备产线晶圆制备累计超过2000万片。高能离子注入机作为刚上线不久的兆伏级设备与同类型设备相比，能量范围更宽、注入均一性能更好。

从仅有十余人的小组，到如今人才济济的庞大团队，北京烁科中科信一往无前的初心尚未改变，坚决贯彻落实集团公司对离子注入技术科技自立自强的决策部署，履行强军首责。现在的北京烁科中科信正通过模组式交付方式让装备制造提速，以科学的科研体系使研发流程规范，通过与市场接轨提升装备品质，让更多电科制造的离子注入机服务于“中国芯”制造，切实保障我国集成电路制造行业在成熟和先进制程领域的生产安全，为中国半导体产业高速发展赋能！